來源：學術(shù)之家整理 2025-03-18 15:38:50
《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》影響因子查詢可以通過以下幾種方法：
1.?通過期刊官網(wǎng)或數(shù)據(jù)庫查詢
期刊官網(wǎng)：訪問Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems的官方網(wǎng)站。
Journal Citation Reports (JCR)：由Clarivate Analytics發(fā)布，是專門提供期刊引證報告的工具，可通過期刊名、ISSN/EISSN號等進行檢索，查看期刊的影響因子及分區(qū)情況。
2.?通過學術(shù)平臺或工具查詢：
知網(wǎng)：國內(nèi)研究者可以使用中國知網(wǎng)的高級檢索功能，勾選“期刊導航”后輸入刊名，在詳情頁查看復合影響因子、綜合影響因子等本土化指標。
3.?通過圖書館或?qū)W術(shù)資源
中科院分區(qū)查詢：過中科院的分區(qū)查詢系統(tǒng)，輸入期刊名稱即可查看影響因子和分區(qū)。
《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》雜志是一本由SPIE出版，專注于物理與天體物理-工程：電子與電氣領(lǐng)域研究的學術(shù)期刊，創(chuàng)刊于2007年，其ISSN為1932-5150，E-ISSN為1932-5134。該刊為Quarterly，重點介紹在ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC領(lǐng)域的最新關(guān)鍵主題。這些文章旨在為尚未深入研究該領(lǐng)域的讀者提供最新的、完整的主題總結(jié)，幫助他們快速了解相關(guān)領(lǐng)域的核心內(nèi)容。
該雜志已被SCIE數(shù)據(jù)庫收錄， 在中科院分區(qū)中，《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》位于大類學科：物理與天體物理，分區(qū)為3區(qū)，小類學科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC工程：電子與電氣，分區(qū)為：3區(qū)。
而在JCR分區(qū)中，它被歸為Q3。這表明該期刊在工程：電子與電氣領(lǐng)域具有較高的學術(shù)影響力和認可度。
| 按JIF指標學科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 187 / 275 |
32.2%
|
| 學科：MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY | SCIE | Q3 | 255 / 342 |
25.6%
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| 學科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q4 | 91 / 107 |
15.4%
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| 學科：OPTICS | SCIE | Q3 | 68 / 100 |
32.5%
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JCR分區(qū)：JCR（Journal Citation Reports）由科睿唯安公司（前身為湯森路透）開發(fā)。JCR沒有設(shè)置大類,只將期刊分為176個具體學科，也就是中科院分區(qū)中的小類學科。基于不同學科的當年影響因子高低進行排序，將期刊的數(shù)量均勻分為四個部分，Q1區(qū)代表學科分類中影響因子排名前25%的期刊，以此類推，Q2區(qū)為前25%-50%期刊，Q3區(qū)為前50%-75%期刊，Q4區(qū)為75%以后期刊。
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