來源：學術之家整理 2025-03-18 15:38:50
《Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems》中文名稱：《微納光刻技術雜志》，創刊于2007年，由SPIE出版商出版，出版周期Quarterly。
《微/納米光刻、MEMS 和 MOEMS 雜志》（JM3）發表同行評審的論文，內容涉及光刻、制造、封裝和集成技術的科學、開發和實踐，這些技術對于滿足電子、微機電系統、微光機電系統和光子學行業的需求必不可少。
1、建議稿件控制10頁以上，文章撰寫語言為英語；（單欄格式，單倍行距，內容10號字體，文稿類型包含：原創研究(Original Research)、案例報告(Case Report)、文獻綜述(Literature Review)等；文件格式包含word、PDF、LaTeX等。
2、稿件重復率控制10%以內，論文務必保證原創性、圖標、公式、引文等要素齊備，保證附屬資料的完整。已發表或引用過度的文章將不會被出版和檢索，禁止一稿多投，拒絕抄襲、機械性的稿件。
3、稿件必須有較好的英語表達水平，有圖，有表，有公式，有數據或設計，有算法（方案，模型），實驗，仿真等；參考文獻控制25條以上，參考文獻引用一半以上控制在近5年以內。
1、建議使用TIFF、EPS、JPEG格式 ，TIFF格式 使用LZW壓縮。
2、文件大小最大不超過20MB，不要以單個文件的形式上傳數據。
3、彩色圖片的分辨率≥300dpi；黑白圖片的分辨率在≥500dpi；line art圖片類型的分辨率≥1000dpi；色彩模式建議采用RGB，除非期刊注明要CMYK。
4、線條不要細于0.25pt,也不能太粗，超過1.5pt,過細或過粗都影響美觀。
5、表格一般和manuscrript放置在一個word文檔里部分期刊 需要單獨上傳表格。
1、包括作者姓名、最高學位，作者單位（精確到部門），郵箱，地址，郵編，關鍵詞，內容，總結，項目基金，參考文獻，作者相片+簡介（一定要確保作者信息準確無誤，提交稿件之后這部分不能再作改動）。
更多征稿細則請查閱雜志社征稿要求。本站專注期刊咨詢服務十年，確保SCI檢索，稿件信息安全保密，合乎學術規范不成功不收費，詳情請咨詢客服。
聲明：該作品系作者結合互聯網公開知識整合。如有錯漏請聯系我們，我們將及時更正。
