《Crystallography Reports》中文名稱(chēng)：《晶體學(xué)報(bào)告》，創(chuàng)刊于2000年，由Pleiades Publishing出版商出版，出版周期Bimonthly。

《晶體學(xué)報(bào)告》是一本發(fā)表原創(chuàng)文章、簡(jiǎn)短通訊和晶體學(xué)各個(gè)方面評(píng)論的期刊：X 射線、電子和中子的衍射和散射，無(wú)機(jī)和有機(jī)物質(zhì)（包括蛋白質(zhì)和其他生物物質(zhì)）的晶體結(jié)構(gòu)的測(cè)定；紫外-可見(jiàn)光和紅外光譜；晶體的生長(zhǎng)、不完美結(jié)構(gòu)和物理性質(zhì)；薄膜、液晶、納米材料、部分無(wú)序系統(tǒng)和研究方法。

投稿《Crystallography Reports》需要準(zhǔn)備的文件可詳細(xì)閱讀以下要求：

文章要求：

1、建議稿件控制10頁(yè)以上，文章撰寫(xiě)語(yǔ)言為英語(yǔ)；（單欄格式，單倍行距，內(nèi)容10號(hào)字體，文稿類(lèi)型包含：原創(chuàng)研究(Original Research)、案例報(bào)告(Case Report)、文獻(xiàn)綜述(Literature Review)等；文件格式包含word、PDF、LaTeX等。

2、稿件重復(fù)率控制10%以內(nèi)，論文務(wù)必保證原創(chuàng)性、圖標(biāo)、公式、引文等要素齊備，保證附屬資料的完整。已發(fā)表或引用過(guò)度的文章將不會(huì)被出版和檢索，禁止一稿多投，拒絕抄襲、機(jī)械性的稿件。

3、稿件必須有較好的英語(yǔ)表達(dá)水平，有圖，有表，有公式，有數(shù)據(jù)或設(shè)計(jì)，有算法（方案，模型），實(shí)驗(yàn)，仿真等；參考文獻(xiàn)控制25條以上，參考文獻(xiàn)引用一半以上控制在近5年以內(nèi)。

圖片和圖表要求：

1、建議使用TIFF、EPS、JPEG格式 ，TIFF格式 使用LZW壓縮。

2、文件大小最大不超過(guò)20MB，不要以單個(gè)文件的形式上傳數(shù)據(jù)。

3、彩色圖片的分辨率≥300dpi；黑白圖片的分辨率在≥500dpi；line art圖片類(lèi)型的分辨率≥1000dpi；色彩模式建議采用RGB，除非期刊注明要CMYK。

4、線條不要細(xì)于0.25pt,也不能太粗，超過(guò)1.5pt,過(guò)細(xì)或過(guò)粗都影響美觀。

5、表格一般和manuscrript放置在一個(gè)word文檔里部分期刊 需要單獨(dú)上傳表格。

作者信息：

1、包括作者姓名、最高學(xué)位，作者單位（精確到部門(mén)），郵箱，地址，郵編，關(guān)鍵詞，內(nèi)容，總結(jié)，項(xiàng)目基金，參考文獻(xiàn)，作者相片+簡(jiǎn)介（一定要確保作者信息準(zhǔn)確無(wú)誤，提交稿件之后這部分不能再作改動(dòng)）。

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