來源：學(xué)術(shù)之家整理 2025-03-18 15:36:32
《Journal Of Physics D-applied Physics》中文名稱：《應(yīng)用物理學(xué)雜志》，創(chuàng)刊于1970年，由IOP Publishing Ltd.出版商出版，出版周期Weekly。
該期刊涉及應(yīng)用物理研究的各個方面，從生物物理、磁學(xué)、等離子體和半導(dǎo)體到物質(zhì)的結(jié)構(gòu)和特性。
旨在及時、準確、全面地報道國內(nèi)外PHYSICS, APPLIED工作者在該領(lǐng)域的科學(xué)研究等工作中取得的經(jīng)驗、科研成果、技術(shù)革新、學(xué)術(shù)動態(tài)等。
| 國家/地區(qū) | 發(fā)文量 |
| CHINA MAINLAND | 1453 |
| USA | 494 |
| GERMANY (FED REP GER) | 280 |
| Japan | 255 |
| India | 225 |
| France | 198 |
| England | 171 |
| Russia | 153 |
| South Korea | 124 |
| Australia | 95 |
| 文章引用名稱 | 引用次數(shù) |
| The 2018 GaN power electroni... | 147 |
| The kINPen-a review on physi... | 57 |
| The 2019 materials by design... | 55 |
| Review of multi-layered magn... | 40 |
| Review of memristor devices ... | 33 |
| The 2018 biomembrane curvatu... | 33 |
| A review on applications of ... | 32 |
| The 2019 surface acoustic wa... | 30 |
| Gallium nitride vertical pow... | 29 |
| Mechanical properties of two... | 28 |
| 被引用期刊名稱 | 數(shù)量 |
| J PHYS D APPL PHYS | 2388 |
| others | 1963 |
| PLASMA SOURCES SCI T | 1276 |
| J APPL PHYS | 1102 |
| MATER RES EXPRESS | 925 |
| J MAGN MAGN MATER | 792 |
| IEEE T PLASMA SCI | 759 |
| J ALLOY COMPD | 697 |
| PHYS PLASMAS | 665 |
| PHYS REV B | 633 |
| 引用期刊名稱 | 數(shù)量 |
| J PHYS D APPL PHYS | 2388 |
| APPL PHYS LETT | 2365 |
| PHYS REV B | 1983 |
| others | 1814 |
| J APPL PHYS | 1700 |
| PHYS REV LETT | 1316 |
| NANO LETT | 757 |
| PLASMA SOURCES SCI T | 745 |
| SCI REP-UK | 727 |
| SCIENCE | 661 |
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