來(lái)源：學(xué)術(shù)之家整理 2025-03-18 15:36:27
《Ieee Transactions On Plasma Science》是一本專注于PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS領(lǐng)域的English學(xué)術(shù)期刊，創(chuàng)刊于1973年，由Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc.出版商出版，出版周期Bimonthly。該刊已被SCIE數(shù)據(jù)庫(kù)收錄。根據(jù)中科院分區(qū)，該雜志在大類學(xué)科物理與天體物理中位列3區(qū)，小類學(xué)科PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS物理：流體與等離子體中位列4區(qū)，進(jìn)一步證明了其在學(xué)術(shù)界的地位。
《Ieee Transactions On Plasma Science》雜志在JCR分區(qū)中屬于Q3，按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū)中學(xué)科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS為Q3，按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū)中學(xué)科：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS為Q3，表明其在全球范圍內(nèi)具有較高的學(xué)術(shù)影響力。
投稿《Ieee Transactions On Plasma Science》雜志可以通過(guò)以下幾種方式了解稿件狀態(tài)：
1.通過(guò)在線投稿系統(tǒng)查詢：訪問(wèn)期刊投稿網(wǎng)站、登錄賬戶、查看稿件狀態(tài)。
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3.通過(guò)電話聯(lián)系編輯部查詢：如果您不確定稿件狀態(tài)或需要進(jìn)一步信息，可以聯(lián)系編輯部。編輯部地址為：IEEE-INST ELECTRICAL ELECTRONICS ENGINEERS INC, 445 HOES LANE, PISCATAWAY, USA, NJ, 08855-4141。
4.參考平均審稿周期：根據(jù)《Ieee Transactions On Plasma Science》雜志的平均審稿速度預(yù)計(jì)為： 約3.7個(gè)月 ，如果投稿已超過(guò)時(shí)間仍未收到反饋，建議主動(dòng)聯(lián)系雜志社。
Ieee Transactions On Plasma Science中科院分區(qū)
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 物理與天體物理 | 4區(qū) | PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理：流體與等離子體 | 4區(qū) | 否 | 否 |
中科院分區(qū)：中科院分區(qū)是SCI期刊分區(qū)的一種，是由中國(guó)科學(xué)院國(guó)家科學(xué)圖書館制定出來(lái)的分區(qū)。主要有兩個(gè)版本，即基礎(chǔ)版和升級(jí)版。2019年中國(guó)科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心期刊分區(qū)表推出了升級(jí)版，實(shí)現(xiàn)了基礎(chǔ)版和升級(jí)版的并存過(guò)渡；升級(jí)版是對(duì)基礎(chǔ)版的延續(xù)和改進(jìn)，將期刊由基礎(chǔ)版的13個(gè)學(xué)科擴(kuò)展至18個(gè)，科研評(píng)價(jià)將更加明確。
近年IF值(影響因子)趨勢(shì)圖
影響因子：是美國(guó)科學(xué)信息研究所(ISI)的期刊引證報(bào)告(JCR)中的一項(xiàng)數(shù)據(jù)。指的是某一期刊的文章在特定年份或時(shí)期被引用的頻率，是衡量學(xué)術(shù)期刊影響力的一個(gè)重要指標(biāo)。自1975年以來(lái)，每年定期發(fā)布于“期刊引證報(bào)告”(JCR)。
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